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 1.GMP清洗机的清洗参数

    在选择一个最适合的清洗技术时，根据不间的用途需要考虑到很多因素。下面列出了每个清洗系统相关重要性所占的百分比:

    高压GMP清洗机清洗系统(大于2.5X10(7)Pa)一水的冲击力100%:

    中压GMP清洗机油洗系统(0.5-2.5X10(7)Pa)一水的冲击力60%，温度影响20%，化学药品影响20%:

    低压GMP清洗机清洗系统(不超过5X10(6)Pa)一水的冲击力34%，温度影响33%，化学药品影响33%。

    以上三种GMP清洗机清洗系统中，冲击力是一个普遍特性，泵压越高，水力影响越大。许多情况下，选择这些水清洗系统就足够了，但是在清洗有大量油污的薄膜和残渣时，还需加热或加入化学添加剂。特别是医药、精细化学、生物技术工厂等领域，必须用溶剂才能清除。

    2.清洗频率

    清洗频率是由工艺操作过程决定的。例如，一个多用途的化学医药设备，生产出的产品需要每个月进行更换:就需要制定一个完整的清洗计划;一个批量生产不同颜色染料的工厂，就要每天或每周对设备进行清洗。通常经常清洗设备要比有沉积物后再清洗效果好得多。清洗频率对设备设计所需的精密度有一定程度的影响。

    3.节省费用

    在评估GMP清洗机清洗系统的成本效益时，费用的节省是一个主要方面。对于医药设备，通常在不同药物生产中间需要间隔6-8天来清洗设备.占了相当大一部分生产时间。按一年计算，间隔时间就是60天，既无生产能力，也无经济效益。无论什么类型的企业，当考虑到劳动力成本时，一般都采用减小企业规模的办法，并充分利用现有的人力资浑。清洗被认为是非生产性的、劳动强度大的行业。实际上，在很多工业生产中，清洗是一个完整过程的一部分，能否节省费用，关健在于是否通过自动化或半自动系统完成。